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        真空吸盤不同真空度下的工藝技術

        發布時間:2019-06-05 11:10 閱讀次數:

          隨著真空度的增加和氣體分子密度的降低,氣體的物理性質發生了變化。根據氣體性能的變化,在不同的真空狀態下采用不同的工藝方法來達到不同的生產目的。從集成電路制造到加速器運行、受控核聚變、航天器衛星等,再到許多民用裝飾品的生產,都與真空技術有關。真空吸盤不同真空度下的工藝技術

          首先,我們將討論真空吸盤技術在低真空中的應用。

          低真空壓力范圍105~102 Pa。在低真空狀態下,與大氣壓相比,只有分子數量由多變少,但氣體分子的空間性質沒有變化。氣體分子之間經常發生碰撞。

          低真空狀態真空泵真空技術主要利用真空與大氣壓差產生的力和均勻壓差力原理實現各種真空應用。

          低真空狀態下真空泵的真空過程主要包括五個方面:

          1。真空吸引和輸送固體、液體、膠體和粒子。

          2。真空吸盤提升和真空醫療設備。

          3。真空成型,復制浮雕。

          4。真空過渡

          5。真空浸漬


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